Contact electrique — Contact électrique « Faux contact » redirige ici. Pour la série télévisée belge, voir Faux contact (série télévisée). Un contact électrique est un système permettant le passage d un courant électrique à travers deux éléments de circuit… … Wikipédia en Français
Contact Électrique — « Faux contact » redirige ici. Pour la série télévisée belge, voir Faux contact (série télévisée). Un contact électrique est un système permettant le passage d un courant électrique à travers deux éléments de circuit mécaniquement… … Wikipédia en Français
Contact électrique — « Faux contact » redirige ici. Pour la série télévisée belge, voir Faux contact (série télévisée). Un contact électrique est un système permettant le passage d un courant électrique à travers deux éléments de circuit mécaniquement… … Wikipédia en Français
Déposition (physique) — Condensation Pour les articles homonymes, voir Condensation (homonymie). « Condensation liquide » (de brume sur un rameau). Cette eau est dite « météoritique » … Wikipédia en Français
Faux contact — Contact électrique « Faux contact » redirige ici. Pour la série télévisée belge, voir Faux contact (série télévisée). Un contact électrique est un système permettant le passage d un courant électrique à travers deux éléments de circuit… … Wikipédia en Français
Ohmic contact — An ohmic contact is a region on a semiconductor device that has been prepared so that the current voltage (I V) curve of the device is linear and symmetric. If the I V characteristic is non linear and asymmetric, the contact is not ohmic, but is… … Wikipedia
Sputter deposition — is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering, that is ejecting, material from a target, that is source, which then deposits onto a substrate, such as a silicon wafer. Resputtering is re emission of the… … Wikipedia
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Evaporation (deposition) — Evaporation machine used for metallization at LAAS technological facility in Toulouse, France. Evaporation is a common method of thin film deposition. The source material is evaporated in a vacuum. The vacuum allows vapor particles to travel… … Wikipedia
